Attributaire déclaré
PUCES TECHNOLOGIES SEMICONDUCTEURS
SIREN 394917520
Cette fiche rassemble les marchés publics où cette entreprise est déclarée attributaire dans les données publiques disponibles. Elle ne décrit ni ses capacités, ni ses qualifications, ni ses données privées.
Marchés identifiés
2
Acheteurs identifiés
2
Montant public identifié
624 800 EUR
Période identifiée
12/12/2024 – 24/04/2025
Principaux acheteurs
- CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE 1 marché(s)
- INSTITUT POLYTECHNIQUE DE GRENOBLE 1 marché(s)
Catégories principales
- Matériel de gravure sèche · 1 marché(s) CPV 22520000
- Services de maintenance préventive · 1 marché(s) CPV 50324200
Marchés attribués récents
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L’objet de ce marché concerne l’acquisition, la livraison et la mise en service de deux dispositifs de gravure ionique réactive par plasma du type RIE-CCP utilisant des gaz fluorés ou dioxygène. L’un des deux réacteurs sera dédié à la gravure exclusive des matériaux SixNy, SiO2 et Si avec un masque de résine (appelé RIE_1), le deuxième sera ouvert à la gravure de mêmes matériaux et aussi de tous les matériaux pouvant être gravés par un plasma obtenu à partir de gaz fluorés ou dioxygène (appelé RIE_2).
Acheteur non renseigné · notifié le 24/04/2025
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Prestation de maintenance pour équipement de dépôt de couches atomiques, de marque Oxford Instrument au profit de l'Institut polytechnique de Grenoble, pour le CIME Nanotech.
Grenoble INP · notifié le 12/12/2024
Échéances estimées
Ce sont des estimations fondées sur les données publiées, pas des appels d'offres annoncés.
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Prestation de maintenance pour équipement de dépôt de couches atomiques, de marque Oxford Instrument au profit de l'Institut polytechnique de Grenoble, pour le CIME Nanotech.
Échéance estimée : 12/12/2025 · confiance high
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L’objet de ce marché concerne l’acquisition, la livraison et la mise en service de deux dispositifs de gravure ionique réactive par plasma du type RIE-CCP utilisant des gaz fluorés ou dioxygène. L’un des deux réacteurs sera dédié à la gravure exclusive des matériaux SixNy, SiO2 et Si avec un masque de résine (appelé RIE_1), le deuxième sera ouvert à la gravure de mêmes matériaux et aussi de tous les matériaux pouvant être gravés par un plasma obtenu à partir de gaz fluorés ou dioxygène (appelé RIE_2).
Échéance estimée : 24/12/2026 · confiance high
Source et qualité
Les marchés proviennent des Données Essentielles de la Commande Publique. L'identité affichée provient d'une source officielle lorsque disponible.
Source d'identité : registry